薄膜の厚さと光学特性は、マイクロおよびナノエレクトロニクス デバイスの性能と信頼性にとって重要です。 サンプルのサイズが小さくなっていくにつれ、小さな構造物の厚さと光学特性を測定することが求められますが、従来の方法では解決することが難しいです。 イメージングエリプソメトリーは、ミクロンスケールの構造上の表面や膜の特性を評価するための高速かつ非破壊的な方法を提供し、 材料の研究開発にとって貴重なツールとなります。 本ウェビナーでは、イメージングエリプソメトリーの測定原理、装置概要、解析方法、応用事例などを紹介させていただきます。