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Park NX-Mask

AFMによるEUVマスクリペア

Park NX-Mask は、デバイスの微細化、フォトマスクの複雑化に対応した
新世代のフォトマスクリペアシステムです。
Park NX-Maskは、最先端の原子間力顕微鏡技術を取り入れたハイエンドEUVマスクのリペアに
対応する革新的なツールです。Park NX-Maskは、自動欠陥検査から欠陥のリペア、
リペアの検証までと、オールインワンソリューションを提供し、
これまでにないリペア効果で高スループットを実現します。.

  • あらゆる欠陥をシームレスに修復するため、破損のリスクを大幅に低減
  • EUVマスクを扱うためのデュアルポッドに対応
  • 欠陥の検査からリペア、そして検証まで行うオールインワンソリューション
 
 

安全性の高い優れた方法で欠陥をリペア

EUV光源からの光が反射する過程で、錫(Sn)などの粒子がマスクに到達し、光の反射率を低下させ、正確な転写プロセスが難しい場合がありますが、Park NX-Maskは、実績のあるナノメカニカルAFM技術を活用し、最も安全な方法でパーティクルや複雑なパターンの欠陥を発見および除去することができます。従来のフォトマスクリペアシステムとは異なり、マスク表面にダメージを与えたり、汚したりすることなくリペアを実行します。

安全性

 
  • 電子ビームのチャージなし
  • 化学物質の不使用
  • 真空不要

特長

 
  • ナノメートル分解能と精度の高い修復
  • 一つのシステムでサーベイスキャンから修復、検証まで完了
  • リーズナブルな価格設定
 
 

インライン生産による自動化シームレスリペア

Park NX-Maskは、EUVマスクのためのデュアルポッドシステムで、インライン生産に最適化されたソリューションを提供します。

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欠陥の特定とリペア後の検証を可能にする非接触型AFM技術

Park NX-Maskは、最も安全なスキャン方法である独自の非接触AFM技術を使い、欠陥の位置を特定するサーベイスキャンを行います。サーベイスキャンにより、欠陥の大きさと正確な位置、および各パーティクルや欠陥に関する情報を取得します。リペアした後、Park NX-Maskは非接触型AFM技術でリペア後の検証を行い、ナノスケールの3Dトポグラフィーや表面粗さなどその他の測定データを出力します。

Photomask Repair - NX-Mask | Park Systems