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本讲座以多晶ZnO基TCO薄膜的耐湿热稳定性为出发点,结合静电力力显微镜(EFM: Electrical Force microscopy)研究ZnO薄膜的晶界稳定性对耐湿热性能的影响,展示了原子力显微镜在氧化物晶界研究中的巨大潜力

 
 
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利用静电力显微镜研究ZnO薄膜的耐湿热稳定性

2020年10月22日*星期四
北京时间东八区上午10:00-11:00
*Note: This webinar will be presented in Mandarin /中文

Electrostatic force microscopy of polycrystalline ZnO thin films

基于Al或Ga掺杂ZnO(AZO或GZO)的透明导电氧化物薄膜(TCO: Transparent Conductive Oxide)拥有良好的导电性能和光学性能,被广泛应用于太阳能电池、平板显示器(包括液晶显示器、等离子显示器等)、有机发光二极管电极(OLED)等光电器件。相比于铟掺杂的氧化锡(ITO: Indium doped Tin Oxide)薄膜具有的优异环境稳定性,多晶ZnO基TCO薄膜常采用低温镀膜工艺(低于300oC)沉积于玻璃或有机薄膜表面,在湿热环境下的电学性质不稳定,常表现为薄膜电阻率会随着使用时间增长而增加。解决ZnO基TCO薄膜的耐湿热稳定性问题对其实际应用有重要的推动作用。本讲座以多晶ZnO基TCO薄膜的耐湿热稳定性为出发点,结合静电力力显微镜(EFM: Electrical Force microscopy)研究ZnO薄膜的晶界稳定性对耐湿热性能的影响,展示了原子力显微镜在氧化物晶界研究中的巨大潜力。

主讲人: 
宋华平,松山湖材料实验室特聘高级工程师

2005年毕业于华中科技大学电子科学与技术系,2005-2010年在中国科学院半导体研究所材料重点实验室硕博连续,获材料物理与化学博士学位。2010-2018年先后在日本物质材料研究机构(NIMS)、高知工科大学和日本大学从事博士后研究,研究方向围绕宽禁带半导体材料生长及分析测试领域,拥有丰富的半导体材料外延生长,分析测试表征以及设备改造的经验。