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​薄膜の厚さと光学特性は、マイクロおよびナノエレクトロニクス デバイスの性能と信頼性にとって重要です。 サンプルのサイズが小さくなっていくにつれ、小さな構造物の厚さと光学特性を測定することが求められますが、従来の方法では解決することが難しいです。 イメージングエリプソメトリーは、ミクロンスケールの構造上の表面や膜の特性を評価するための高速かつ非破壊的な方法を提供し、 材料の研究開発にとって貴重なツールとなります。 本ウェビナーでは、イメージングエリプソメトリーの測定原理、装置概要、解析方法、応用事例などを紹介させていただきます。

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Electrostatic and Kelvin probe force microscopies (EFM and KPFM) have become primary tools for the characterization of electrical phenomena on the nanometer scale, with multiple applications for ferroelectrics, photovoltaics and energy devices.
In this workshop, we shall explore the characteristics of different modes like EFM, AM-KPFM and Sideband KPFM.

Real-space images of soft matter with molecular and sub-molecular resolution could provide valuable insights into the relationship between morphology and functionality of such materials, but their acquisition is problematic due to perceived limitations in atomic force microscopy (AFM).

Here we demonstrate that using a higher eigenmode imaging (HEMI) approach could provide a simple and versatile route to acquiring ultra-high resolution images with conventional AFM probes both in air and liquids. HEMI is based on exciting 2nd, 3rd or higher resonance modes of standard cantilevers. Using higher frequency greatly improves both resolving capabilities and acquisition speed as well. During this webinar, we will present a quick overview of various materials/samples that were successfully imaged down to a single molecule level using this approach.

在先进半导体制程领域中，光刻技术扮演着极其重要且关键的角色。其中，光掩模作为微缩图形的来源，如何确保其图形正确而不被缺陷所影响，缺陷检测与修复成了光掩模不可或缺的工序。文中介绍原子力显微镜作为高精度纳米级定位与量测系统，可用来针对光掩模上的缺陷形貌、尺寸大小、定位缺陷位置与种类做进一步检验 (Defect Review)，并生成三维形貌和其他关键性的计量数据,亦可作为电子束或是激光修补机台的定期机况监控，给予及时的制程条件反馈。